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Zuschlag

RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04) - PR1161740-3340-P

Den Zuschlag für „RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04) - PR1161740-3340-P“ hat SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH erhalten. Vergeben hat ihn Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 im Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb; bekannt gemacht am 04.08.2026. Einen Auftragswert nennt die Bekanntmachung nicht.

Zuschlag anSENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH
Auftragswertnicht veröffentlicht
VergabestelleFraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
VerfahrenVerhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb
LeistungsartLieferleistung
Leistung nach CPV31712100 Mikroelektronische Maschinen und Geräte
Zuschlagsentscheidungnicht veröffentlicht
Bekanntmachung des Zuschlags04.08.2026

Einordnung

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Alle öffentlichen Aufträge von SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH

Fragen zu diesem Zuschlag

Wer hat den Auftrag bekommen?

SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH.

Wie hoch war der Auftragswert?

Die Bekanntmachung nennt keinen Auftragswert; das ist bei rund der Hälfte der Zuschläge so.

Lässt sich der Zuschlag noch anfechten?

Der Weg führt über die Vergabekammer, und er ist kurz: zwischen der Information der unterlegenen Bieter nach § 134 GWB und dem Vertragsschluss liegt nur eine Wartefrist. Danach bleibt der Zuschlag in aller Regel bestehen.

Wo finde ich vergleichbare offene Ausschreibungen?

Unter „Jetzt offen“ weiter unten.

Wer bei dieser Leistung gewinnt

Gleiche CPV-Gruppe (31712…), letzte 18 Monate.

(1) Öffentliche Auftraggeber haben die Bieter, deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, über den Namen des Unternehmens, dessen Angebot angenommen werden soll, über die Gründe der vorgesehenen Nichtberücksichtigung ihres Angebots und über den frühesten Zeitpunkt des Vertragsschlusses unverzüglich in Textform zu informieren.

Jetzt offen: vergleichbare Ausschreibungen

Quellen

Zitieren: „Zuschlag: RIE Cluster DRIE & Cryo Etch (ENAS-04) - PR1161740-3340-P“, Neurobird Ausschreibungen, https://neurobird.com/de/ausschreibungen/zuschlag/rie-cluster-drie-cryo-etch-enas-04-pr1161740-3340-p-z537542-2026, Stand 01.11.2026.