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EU-weite Ausschreibung

Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie

EU-weite Ausschreibung (Lieferleistung): „Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie“ in Zwickau, Sachsen. Vergabeart: Offenes Verfahren, EU-weit bekannt gemacht (oberhalb der EU-Schwellenwerte, Verfahren nach GWB und VgV). Angebote sind bis Donnerstag, 26.11.2026 einzureichen, in 25 Tagen. Leistung nach CPV: Industrielle Maschinen.

Angebotsfrist
26.11.2026, noch 25 Tage
Veröffentlicht
22.10.2026
Vergabeart
Offenes Verfahren
Bekanntmachung
EU-weit (TED)
Leistungsart
Lieferleistung
Auftragswert
nicht veröffentlicht
Quelle, zuletzt geprüft
TED (EU-Amtsblatt), 01.11.2026
Erfüllungsort
Zwickau, Landkreis Zwickau, Sachsen

Vergabestelle und Unterlagen

Vergabestelle nur mit Zugang sichtbar

Zur OriginalbekanntmachungVergabeunterlagen auf der Vergabeplattform

Kurz gesagt

Eine Hochtemperaturanlage für die Mikrosystemtechnik wird beschafft.

Zusammenfassung aus dem Text der Bekanntmachung erstellt und automatisch gegen ihn geprüft; maßgeblich ist der Originaltext.

Leistungsbeschreibung

1 STK Hochtemperaturanlage mit 8 Prozessstationen / Rohren mit Beladeeinrichtungen für Hochtemperatur- und LP-CVD Prozesse, vorwiegend für monokristalline Siliziumwafer. - Footprint der Gesamtanlage nicht größer als 400cm x 600cm x 295cm (L x B x H). - Besteht das Gesamtsystem aus mehreren Einzelanlagen / Teilen müssen alle Anlagen innerhalb des angegebenen Footprints aufgestellt werden können. - Vom angegebenen Footprint ausgenommen sind ausschließlich eine etwaige Bedienkonsole, diese darf separat auf einem max. 180cmx80cm messenden Tisch untergebracht werden und die Vakuum-Pumpen, welche innerhalb eines Service-Bereichs untergebracht werden dürfen. - Bei zwei gekoppelten Einzelanlagen: ist eine an der Rückwand gespiegelte Konfiguration (eine Anlage mit Beladestationen rechts, eine Anlage mit Beladestationen links) vorzusehen - Alle 8 Prozessstationen sind auf die parallele Bearbeitung von mindestens 13 Stück Wafer pro Prozess auszulegen. - Die verarbeitbaren Durchmesser der Wafer sind mindestens: o 150mm und o 100mm - Die Prozessstationen sind als horizontal angeordnete Prozessrohre mit jeweils einem Quarz- oder SiC-Rohr und jeweils einer automatischen/motorisierten Beladestation vorzusehen. - Der Ausleger (Paddle) zur Beladung ist aus Siliciumcarbid auszuführen. - Die Beladestation(en) sind mit Luftfiltereinheit(en) mit laminarer Luftströmung vorzusehen. - Jede Prozessstation ist mit jeweils mindestens 3 Temperaturregelzonen pro Prozessrohr auszuführen. - Jedes LP - CVD Prozessrohr ist mit einem integrierten Leckratetest / Druckverlustprofiling zu realisieren. - Innerhalb der Bearbeitungszone der min. 13 Prozesswafer (Flat-Zone) ist im Prozess eine Temperaturabweichung vom Sollwert von höchstens +/-1 K und eine Soll-Temperaturabweichung von Run zu Run höchstens +/-1 K zu erzielen. - Mindestens ein geeignetes Thermoelement pro Temperaturregelzone zur Prozessüberwachung und -regelung muss vorhanden sein. - Mindestens ein geeignetes Thermoelement pro Temperaturregelzone als Ausfallsicherung muss vorhanden sein. - Mindestens ein Profilthermoelement pro Prozessstation - Geeignete Messeinrichtungen zur Anlagenüberwachung und Steuerung in Bezug die technische Sicherheit (z.B. Übertemperaturabschaltung, Abluftausfall, Kühlwasserausfall, Gasversorgungsausfall, redundante Interlocks...) müssen vorhanden sein. - In den Gaskabinetten ist eine Prozessgaszuführung und -verteilung, Prozessgassteuerung und -überwachung nach Stand der Technik, abgestimmt auf die Eigenschaften der für die Prozessstationen spezifizierten Prozessgase und Flüssigkeiten zu realisieren. - Absaugung / Scavenger an der Prozessstation - Anlagensteuerung(en) mit Monitor und Benutzerschnittstelle, spätestens nach Ablauf der Garantie müssen alle Benutzer- und Servicelevel für die WHZ zugänglich dauerhaft sein werden - mehrere Prozessstationen können in einer Steuerung/Benutzerschnittstelle zusammengefasst werden - Bei Störung muss die Anlage selbsttätig in einen sicheren Zustand übergehen, wenn dazu eine unterbrechungsfreie Stromversorgung notwendig ist, ist diese mit zu inkludieren. - Maschinen Not-Aus Schalter, gesichert gegen Wiederanschalten - CE Zertifikat und CE Kennzeichnung für Gesamtanlage - Einhaltung der EU-Maschinenrichtlinie (2006/42/EC / oder 2023/1230, je nach Auslieferungsdatum), wo anwendbar - Vollständige Anlagendokumentation. 1 STK Prozessstation, Oxidation, n-Typ-Substrate - Dauerprozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Wasserstoff, Sauerstoff, Dichlorethylen mit N2 Trägergas - Wasserstoff/Sauerstoff-Verbrenner zur Erzeugung von H2O und Injektion in den Ofen ("External Torch"), Überwachung und Sicherheitseinrichtungen nach Stand der Technik - Automatisiert, über die Anlage angesteuerter Bubbler mit Temperierung für 1,2-Dichlorethylen, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Quartz Baffle / Diffusor, falls zur Erreichung der von Liefer

Bedingungen laut Bekanntmachung

Laufzeit60 Wochen
Rahmenvereinbarungnein
Bindefrist83 Tage nach Angebotsfrist
ZuschlagskriterienPreis und Qualität
Für KMU geeignetnicht ausgewiesen
Sicherheitsleistungnicht verlangt
RechtsgrundlageGWB, VgV (bei Bauleistungen VOB/A EU)
Art des AuftraggebersEinrichtung des öffentlichen Rechts (Land)

Vor der Abgabe prüfen

  1. Zuerst die Unterlagen von der Vergabeplattform holen und jede Position des Leistungsverzeichnisses durchgehen. Mehr
  2. Neben dem Preis zählen weitere Kriterien: die Gewichtung in den Unterlagen prüfen. Mehr
  3. An das Angebot gebunden bis voraussichtlich 17.02.2027: Kapazität und Preise bis dahin sichern. Mehr
  4. Die EEE ausfüllen und die geforderten Eignungsnachweise auf Abruf bereithalten. Mehr
  5. Abgabe bis 26.11.2026, 09:00 Uhr einplanen; die meisten Plattformen nehmen nur elektronische Angebote an. Mehr
  6. Fragen zu den Unterlagen über die Plattform stellen, solange die Frist es erlaubt; Fehler im Verfahren sofort rügen. Mehr

Termine dieser Ausschreibung

VeröffentlichungDonnerstag, 22.10.2026
AngebotsfristDonnerstag, 26.11.2026, 09:00 Uhr
Bindefrist endet (rechnerisch)Mittwoch, 17.02.2027

Zahlen zum Umfeld

Bereichoffenneu in 7 TagenFristende in 7 Tagen
Sachsen, alle Gewerke687172184
Landkreis Zwickau, alle Gewerke26––

Stand 01.11.2026, gezählt nach Abzug der Dubletten. Mehr im Vergabe-Index.

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Was die Zahlen sagen

Kurz beantwortet

Wann endet die Angebotsfrist?

Bis Donnerstag, 26.11.2026, also noch 25 Tage. Die genaue Uhrzeit und den Abgabeweg nennt die Originalbekanntmachung; maßgeblich ist immer sie.

Wie wird die Eignung bei EU-weiten Verfahren belegt?

Vorläufig kann die Eignung mit der Einheitlichen Europäischen Eigenerklärung (EEE) belegt werden; welche Nachweise die Vergabestelle verlangt, steht in den Vergabeunterlagen.

Wo wird der Auftrag ausgeführt?

Erfüllungsort ist Zwickau in Sachsen. Für die Bewertung zählt dieser Ort, nicht der Sitz der Vergabestelle.

Muss eine Sicherheit gestellt werden?

Laut Bekanntmachung wird keine Sicherheitsleistung verlangt.

Ist ein Auftragswert bekannt?

Die Bekanntmachung nennt keinen Auftragswert. Das ist der Normalfall: nur rund 3 Prozent der offenen Ausschreibungen veröffentlichen einen. Den Umfang zeigt das Leistungsverzeichnis in den Vergabeunterlagen.

Wie komme ich an die Vergabeunterlagen?

Über die Originalbekanntmachung und die dort verlinkte Vergabeplattform. Die Unterlagen sind dort in der Regel ohne Anmeldung einsehbar; für die Angebotsabgabe verlangen die Plattformen eine Registrierung.

CPV-Codes dieser Ausschreibung

Rechtsrahmen

(1) Der Zuschlag wird auf das wirtschaftlichste Angebot erteilt. Grundlage dafür ist eine Bewertung des öffentlichen Auftraggebers, ob und inwieweit das Angebot die vorgegebenen Zuschlagskriterien erfüllt. Das wirtschaftlichste Angebot bestimmt sich nach dem besten Preis-Leistungs-Verhältnis. Zu dessen Ermittlung können neben dem Preis oder den Kosten auch qualitative, umweltbezogene oder soziale Aspekte berücksichtigt werden.

Was das für Bieter heißt

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Quellen

Zitieren: „Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie“, Ausschreibung, Neurobird Ausschreibungen, https://neurobird.com/de/ausschreibungen/bekanntmachung/hochtemperatur-lp-cvd-system-fuer-mikrosystemtechnik-und-nanotechnologie-t731956-2026, Stand 01.11.2026. Alle Angaben ohne Gewähr, maßgeblich ist die Originalbekanntmachung.